1 CN**25377.3 液相电沉积N-型及P-型一维纳米线阵列温差电材料及设备和制备方法

　　2 CN**41826.8 使用原子层沉积在基片上沉积高介电常数材料的方法

　　3 CN03121565.3 气相有机材料沉积方法和使用该方法的气相有机材料沉积设备

　　4 CN97102573.8 稳定的氧化钛基气相沉积材料

　　5 CN87104543 沉积二氧化硅和飞灰构成的绝热材料

　　6 CN87105371 饮料的沉积滤清方法及所用的过滤材料

　　7 CN94101146.1 沉积固体材料,特别是精细粒料的装置和方法及该方法的应用

　　8 CN95119074.1 射频化学气相沉积法合成β-Clt;subgt;3lt;/subgt;Nlt;subgt;4lt;/subgt;超硬薄膜材料

　　9 CN95191020.5 金属镀膜电容器用锌沉积基材及其制造方法

　　10 CN98101786.X 能稳定沉积具有各种性能的各种材料的等离子膜沉积装置

　　11 CN97197826.3 水性电沉积涂料、其在涂布导电基材方法中的应用以及银离子和/或元素银在水性电沉积涂料中的应用

　　12 CN99108744.5 电沉积多功能金属基复合材料的方法

　　13 CN98810843.7 通过适度热处理金属沉积物制造材料性能得到**的结构的方法

　　14 CN99808237.6 转载沉积在载带上的膜式材料的装置

　　15 CN00107986.7 一种以表面沉积纳米合金的碳材料为负极的二次锂电池

　　16 CN99809929.5 汽相沉积膜和包装材料

　　17 CN99122649.6 一种**节能快速沉积制备碳/碳复合材料的方法

　　18 CN01125911.6 复合汽相沉积膜的生产方法,其使用的材料及其生产方法

　　19 CN01145043.6 一种用电子束物**相沉积制备纳米多层高阻抗软磁材料及其方法

　　20 CN011**18.7 喷射共沉积准晶颗粒增强铝基复合材料的制作工艺

　　21 CN01144070.8 生产高折射率光学涂层的气相沉积材料和该气相沉积材料的生产方法

　　22 CN00808385.1 沉积的薄膜空隙－柱网络材料

　　23 CN01801362.7 沉积可溶性材料的方法

　　24 CN200610032336.1 双元碳化物共沉积纤维增强复合材料的制造方法

　　25 CN200710181240.6 向衬底表面的孔穴中沉积金属硫属元素化物材料的方法

　　26 CN200710164577.6 氮气喷射沉积镁合金材料及其制备工艺

　　27 CN200810008721.1 供沉积在基材上的材料配方和方法

　　28 CN200710173624.3 抗碳沉积阳极膜材及其制备方法

　　29 CN200810009553.8 用作沉积源的高密度、低氧Re和Re基固结粉末材料及其制造方法

　　30 CN200810032412.8 化学气相沉积**固相法合成LiFePOlt;subgt;4lt;/subgt;/C材料的方法

　　31 CN200680029299.7 使用低温沉积含碳硬掩膜的半导体基材制程

　　32 CN200710036070.2 喷射沉积多孔材料的梯温楔压变形方法及装置

　　33 CN87100729 制造光电器件和其它半导体器件用的**非晶硅合金的沉积物原料和掺杂剂材料

　　34 CN200410026035.9 热梯度化学气相沉积法制备炭/炭复合材料厚壁板材

　　35 CN02819959.6 沉积材料层的方法

　　36 CN2004**8295.1 离子注入或者注入且沉积的材料表面改性方法

　　37 CN200410073187.4 热梯度化学气相沉积法制备炭/炭复合材料

　　38 CN200410057852.0 高性能耐用沉积摩擦材料

　　39 CN200410075131.2 混合沉积摩擦材料

　　40 CN200410081379.X 采用金属有机化学气相沉积法制备功能梯度材料的方法

　　41 CN03811694.4 含至少一个沉积有吸气材料的支撑件的用于电致发光有机屏的组件

　　42 CN200510064035.2 用于在基板上沉积有机材料的装置

　　43 CN200510051176.0 测定沉积膜厚度的方法及装置和形成材料层的方法及装置

　　44 CN200410023057.X 物理场作用下化学气相沉积快速制备炭／炭复合材料的方法

　　45 CN200480016963.5 通过微波沉积制备金属氧化物涂布的有机材料的方法

　　46 CN03823549.8 用于生产金属的电解沉积槽的结构部件的材料

　　47 CN200380104890.0 从单层沉积用试样悬浮物捕获所需量材料的过滤器装置和方法

　　48 CN200480001955.3 保护沉积在基材上的含有金属的结构免受腐蚀的方法

　　49 CN2005**4890.2 气相沉积原位反应制备碳纳米管增强铝基复合材料的方法

　　50 CN200510082958.0 采用醇水基溶液电沉积制备氢电极材料的方法

　　51 CN200510094179.2 纳米金红石二氧化钛沉积法制备云母钛纳米复合材料

　　52 CN200480002409.1 用于沉积钽基材料的化学气相沉积母体

　　53 CN200510082770.6 采用电沉积-浸涂-热处理工艺制备掺杂物的金属氧化物电极材料

　　54 CN200480004721.4 用于生产具有高折射指数的光学层的蒸汽沉积材料

　　55 CN200480004720.X 用于生产具有中等折射指数的光学层的蒸汽沉积材料

　　56 CN200480004750.0 用于生产具有高折射指数的光学层的蒸汽沉积材料

　　57 CN200510047729.5 电沉积制造的梯度多孔金属材料及其制造工艺

　　58 CN200480011126.3 真空沉积功能化的多孔材料

　　59 CN200480013439.2 通过原子层沉积形成的塑料基材阻挡层膜

　　60 CN200510128391.6 用于生产高折射率层的汽相沉积材料

　　61 CN200480013780.8 利用自组装图案化沉积含纳米结构材料的方法和装置和相关制品

　　62 CN200480**192.9 制备MoOlt;subgt;2lt;/subgt; 粉末的方法、由MoOlt;subgt;2lt;/subgt; 粉末制备的产品、MoOlt;subgt;2lt;/subgt; 薄膜的沉积以及使用这种材料的方法

　　63 CN200480024162.3 在基体上沉积材料的方法以及在基体上形成层的方法

　　64 CN200480023772.1 用于沉积具有可调节的性质的材料的方法和装置

　　65 CN200610024509.5 电沉积制备定向短纤维增强金属基复合材料的方法

　　66 CN200480027564.9 使用高密度等离子体化学气相沉积填充缝隙的方法和沉积材料的方法

　　67 CN200480028981.5 微特征工件处理装置和用于在微特征工件上批量沉积材料的方法

　　68 CN200480030051.3 在衬底上沉积材料的方法

　　69 CN2005**1558.0 化学沉积法制备卤化银/氧化铝纳米介孔复合材料的方法

　　70 CN200610031640.4 喷射沉积多孔材料的外框**轧制变形方法

　　71 CN2006**4783.4 气相沉积原位反应制备碳纳米管增强铜基复合材料的方法

　　72 CN200580006510.9 活性金属源和沉积**铝酸盐无机发光材料的方法

　　73 CN200580010374.0 用于选择性沉积颗粒材料的RESS方法

　　74 CN200580016307.X 用于去除沉积材料的反应流体系统和使用该系统的方法

　　75 CN200580016225.5 基板沉积方法和有机材料沉积装置

　　76 CN200510032528.8 电化学沉积-烧结法制备发光薄膜材料的方法

　　77 CN200610031706.X 二次沉积法制备掺杂多种元素的锂电池正极材料的方法

　　78 CN200610152334.6 可消耗材料的厚板及物**相沉积靶材料

　　79 CN200510132107.2 一种气相沉积材料生长和成型的方法及装置

　　80 CN200580026133.5 用来沉积用于有机电子器件的材料的楔形掩模

　　81 CN200580026496.9 在光敏材料上沉积材料

　　82 CN200710034533.1 喷射沉积多孔材料的陶粒轧制变形方法及装置

　　83 CN2007**0694.7 一种平面往复运动喷射沉积多层复合材料的制备方法和设备

　　84 CN200710057117.3 化学共沉积制备纳米金刚石增强铜基复合材料的方法

　　85 CN200480026384.9 一种用于沉积涂层材料膜,尤其是超导氧化物膜的方法和设备

　　86 CN200710035012.8 一种脉冲电沉积铜铟镓硒半导体薄膜材料的方法

　　87 CN200580045085.4 通过沉积低熔点合金制造承载至少一种活性材料的装置的方法

　　88 CN201110048734.3 一种基于化学沉积法制备石墨烯材料的方法

　　89 CN200980133621.4 沉积材料的方法

　　90 CN201110049633.8 无氟化学溶液沉积法动态连续制备高温超导带材设备

　　91 CN201110049467.1 无氟化学溶液沉积法制备高温超导带材缓冲及超导层连续涂覆装置

　　92 CN201110049671.3 无氟化学溶液沉积法动态连续制备高温超导带材热处理炉

　　93 CN201110094301.1 基于电泳沉积纳米聚合物复合材料的制备方法

　　................

　　203 CN201110271991.3 通过原子层沉积形成半导体材料的系统和方法

　　204 CN201080023147.2 由气相沉积涂覆法制备的憎水材料及其用途

　　205 CN201080023547.3 用于后续高温第三族沉积的基材预处理

　　206 CN201080033145.1 用于有机器件的沉积材料以及用于制备有机器件的方法

　　207 CN201080037520.X 选择性沉积熔融塑性材料的设备

　　208 CN201080036455.9 用于制造半导体薄片的装置和利用分子束通过蒸发来沉积材料的装置

　　209 CN201210058570.7 一种喷射沉积Si-Al合金电子封装材料的制备工艺

　　210 CN201110412824.6 通过印**沉积热电材料

　　211 CN201080043466.X 通过单体真空沉积和聚合获得的静电荷耗散材料